在微电子、MEMS、微流控、衍射光学、射频器件等领域的研发与小批量生产中，是否还在为设备昂贵、操作复杂、图形失真而烦恼？现在，一款兼具高精度、易操作、低成本的国产光刻设备来了！
雷神光电技术研究院推出 LSWN-800 接触式光刻机——采用掩膜板与光刻胶直接接触曝光技术，图形转移1:1无缩放，最小线宽可达 800nm，对准精度高达 ±0.3μm，是高校实验室、初创企业及中试产线的理想选择。
LSWN-800 接触式光刻机
✅ 三大核心优势，让光刻更简单高效
1. 高分辨率 + 高对准精度，图形精准还原
最小特征尺寸 800nm，满足多数微结构制造需求 对准精度 0.3μm，确保多层套刻严丝合缝 接触式曝光方式，图形边缘锐利，无投影畸变2. 双波长LED光源，兼容正负胶，工艺灵活
展开剩余52% 配备 365nm（i-line）与 405nm 两种UV-LED光源 支持主流 正性光刻胶（如AZ系列）与负性光刻胶（如SU-8） LED光源寿命长、功耗低、即开即用，无需预热3. 操作简便，维护成本低，快速上手
设备结构紧凑（170×130×180 cm），适配标准洁净台 支持 4英寸、6英寸晶圆，覆盖主流科研与小批量需求 无需复杂校准，新手经简单培训即可独立操作🌐 广泛应用场景，赋能多学科创新
半导体器件：二极管、MOS结构、传感器电极 微机电系统（MEMS）：悬臂梁、微镜、压力传感结构 光电与射频：光波导、滤波器、天线阵列 衍射光学元件（DOE）：光栅、微透镜阵列 柔性电子/覆晶封装：高精度对位键合图形 高校教学实验：微纳加工基础实训平台🇨🇳 国产可靠，服务本地化，响应快
作为完全国产化的光刻设备，LSWN-800打破进口依赖，提供：
快速交付与安装 工艺参数调试支持 本地化售后与配件保障小投入，大产出！
LSWN-800 接触式光刻机，以“够用、好用、耐用”的理念，降低微纳制造门槛，加速从创意到原型的转化。
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